光驰科技取得一种挡板机构及真空处理室专利，可在预处理时有效去除杂质气体，防止残留杂质气体影响真空处理效果

金融界2024年10月19日消息，国家知识产权局信息显示，光驰科技（上海）有限公司取得一项名为“一种挡板机构及真空处理室”的专利，授权公告号CN 221822319 U，申请日期为2024年2月。

专利摘要显示，本实用新型涉及真空处理技术领域，具体公开了一种挡板机构及真空处理室。挡板机构包括支撑部、驱动部和遮挡部，真空处理源与基板沿第三方向间隔设置，挡板机构设于真空处理源与基板之间；当遮挡部处于遮挡状态时，在第三方向上，遮挡部与基板之间的距离小于真空处理源与基板之间的距离的二分之一；在垂直于第三方向的平面内，挡板机构的遮挡面积大于真空处理源与基板之间通道的截面积的60％；当遮挡部处于收纳状态时，真空处理源发出的物质能够到达基板。本实用新型遮挡部与基板之间的距离小于真空处理源与基板之间的距离的二分之一，以在预处理时有效去除杂质气体，防止残留杂质气体影响真空处理效果。

来源：金融界