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京运通半导体取得单晶炉二次加料装置专利,用于单晶炉二次加料

作者:金融界发布时间:2024-10-19

金融界2024年10月19日消息,国家知识产权局信息显示,乐山市京运通半导体材料有限公司取得一项名为“一种用于单晶炉的二次加料装置”的专利,授权公告号 CN 221822390 U,申请日期为2024年2月。

专利摘要显示,本实用新型提供了一种用于单晶炉的二次加料装置,包括内筒、套设于内筒外的外筒、套设于外筒外的挡料筒,所述内筒内部设有沿其长度方向移动的加料杆,所述加料杆的底端固定有用于封堵所述内筒的椎体,所述椎体置于内筒的下部,所述内筒的外壁与外筒的内壁贴合,所述外筒的外壁下部开设有卡槽,所述卡槽在竖直方向上的剖面呈阶梯形,且所述卡槽的一端与外筒的底端连接,所述卡槽的另一端沿阶梯形向上延伸,所述挡料筒的内壁设置有限位块,所述限位块活动连接于卡槽内,用于调节挡料筒的位置。

来源:金融界


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