质量流量控制器为实验生成准确数据

[图片] CVD工艺通常用于制造氮化钛涂层。在这个过程中，几种化学品（TiCl4、N2和H2）被送入一个炉子，它们在高温下反应生成TiN，作为涂层沉积在表面。对涂层的完整性、适当的厚度和均匀性至关重要的是确保将这些材料准确地送入熔炉。 TiCl4将呈液态，必须被汽化以与其他气体正确反应，以确保结果一致。 必须注意尽量减少可能影响涂层完整性的污染。系统中的泄漏或O型圈的渗透会导致室内空气的污染。TiCl4的不正确汽化会导致污染的混合气体被输送到炉子里。 质量流量控制器仪表（MFC）为精确、可重复的气体成分...【查看原文】