FEI 公司申请用于确认测量的 EELS 光谱内的电离边缘并找到其位置的方法专利，提高 EELS 光谱分析的准确性

金融界 2024 年 11 月 14 日消息，国家知识产权局信息显示，FEI 公司申请一项名为“用于确认测量的 EELS 光谱内的电离边缘并找到其位置的方法”的专利，公开号 CN 118937373 A，申请日期为 2024 年 5 月。

专利摘要显示，用于确认测量的 EELS 光谱内的电离边缘并找到其位置的方法。本发明提供了用于确认测量的 EELS 光谱内的电离边缘的方法。该方法涉及提供包含电离边缘的测量的 EELS 光谱以及输出模拟的 EELS 光谱的数值模型，该模拟的 EELS 光谱具有作为输入参数的电离边缘的位置。将该数值模型拟合到该测量的 EELS 光谱，并且提供该电离边缘的拟合位置。使用统计检验在该统计检验通过统计阈值的情况下确认该电离边缘为真电离边缘。该方法可用于多种应用，包括材料科学、化学和物理，以提高 EELS 光谱分析的准确性。

来源：金融界