上海卓晶申请激光直写多光束刻写系统专利，提升刻写效率并降低设备成本

金融界2024年10月21日消息，国家知识产权局信息显示，上海卓晶半导体科技有限公司申请一项名为“一种激光直写多光束刻写系统及其使用方法”的专利，公开号 CN 118759802 A，申请日期为2024年7月。

专利摘要显示，本发明提出一种激光直写多光束刻写系统及其使用方法，该系统包括光源发生装置、光源分光装置、光束调控装置、倍率调整装置、反射折向装置及光束聚焦装置，该激光直写多光束刻写系统采用 AOM 分光镜将激光发生器发出的激光光束分隔形成多路光束，还采用多件 AOD 调光镜对各路光束分别进行能量和偏振角实时处理，使其达到刻写要求，并且由各 AOD 调光镜分别对各光束的开闭状态进行切换，当需要刻写最细线条时打开单路光束，当刻写粗线时打开所有光束，有利于提升刻写效率，并且降低设备成本。

来源：金融界