杭州欣俊哲申请应用于激光直接成像光刻设备的多功能通风系统专利，保证光刻设备稳定地运行

金融界2024年10月21日消息，国家知识产权局信息显示，杭州欣俊哲微纳科技有限公司申请一项名为“一种应用于激光直接成像光刻设备的多功能通风系统”的专利，公开号 CN 118759806 A，申请日期为 2024 年 8 月。

专利摘要显示，本发明涉及一种应用于激光直接成像光刻设备的多功能通风系统，包括具有进风口、回风口及出风口的空气处理装置，外部空气经过进风口进入至空气处理装置内部，经过过滤、冷却及除湿操作后由顶部向下，经出风口吹入光刻设备内部，然后分为两路气流，其中第一路气流向下并向右经过光刻设备的操作平台后从工作台面吹出光刻设备外，第二路气流向下后向左，对左侧需要冷却的部件进行冷却后再向上经由回风口进入至空气处理装置，再经过空气处理装置的过滤、冷却及除湿处理后，再次由空气处理装置的出风口吹入光刻设备，实现循环往复操作。该多功能通风系统集温度、湿度、洁净度控制功能于一体，且具有新风和回风功能，能够保证光刻设备稳定地运行。

来源：金融界