掩膜版与光刻胶的功能和作用
掩膜版与光刻胶在芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色，它们的功能和作用各有侧重，但共同促进了芯片的精确制造。 掩膜版，也称为光罩、光掩膜或光刻掩膜版，是微电子制造过程中的图形转移母版。它的主要功能是作为设计图形的载体，通过光刻过程将掩膜版上的设计图形转移到光刻胶上，再经过刻蚀，将图形刻到衬底上，从而实现图形到硅片的转移。掩膜版的精度和质量在很大程度上决定了集成电路最终产品的质量。在制造过程中，掩膜版的功能类似于传统照相机的“底片”，承载了电子电路的核心技术参数。 [图片] 光刻胶，是一种液体材料，...【查看原文】
