金融界2024年11月14日消息,国家知识产权局信息显示,拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司取得一项名为“一种加热盘测温平台”的专利,授权公告号CN 221992848 U,申请日期为2023年11月。
专利摘要显示,本实用新型提供了一种加热盘测试平台。所述加热盘测温平台包括测试腔、喷淋板、红外遮光罩及红外摄像头。所述测试腔用于容纳待测的加热盘。所述喷淋板设于所述测试腔之上,用于将上方输入的工作气体均匀地传输到所述测试腔中,和/或阻挡从所述测试腔中向上散逸的热量。所述红外遮光罩罩于所述测试腔及所述喷淋板之上,并具有符合红外摄像头焦距的高度,用于隔绝外界的光线。所述红外摄像头设于所述红外遮光罩之上并朝向所述加热盘用于穿过所述喷淋板来采集所述加热盘表面的温度分布图像。通过设置一种可拆卸的喷淋板及其限位结构,本实用新型可以快速拆卸喷淋板并在两种测温功能之间快速切换。
来源:金融界