荷兰扩大光刻机禁令后不久，工信部宣布先进光刻机问世

荷兰扩大光刻机禁令，只会再次坚定中国自力更生的决心，工信部宣布先进光刻机问世！

荷兰这一决定的背后，显然受到来自美国的压力。首先，美国作为全球半导体技术的领导者，主导了半导体产业的全球分工。荷兰的光刻机制造商，如阿斯麦公司，其技术并不完全独立，因此在面对美国可能的原材料供应中断时，他们只能选择屈服。此外，荷兰作为北约成员国，在安全和情报方面与美国有着紧密的联系，这也使得荷兰在面对美国的要求时难以说不。

日前，工信部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，其中就包含了氟化氩光刻机以及氟化氪光刻机，分别是使用248nm光源、分辨率≤110nm，套刻精度≤25nm的Krf光刻机和使用193nm光源、分辨率≤65nm、套刻精度≤8nm的ArFi光刻机。

由此可见，研发和制造高端光刻机是一项极具挑战性的任务。正如吴汉明院士所指出的，单靠一个国家的力量，要制造出EUV光刻机是非常困难的。然而，无论挑战有多大，我们都必须迎难而上。哪怕我们只能缩短与西方一年或两年的差距，这也是一种进步，总比被远远抛在后面要好。只要我们坚持不懈，以“愚公移山”的精神，不断积累小的技术进步，最终会实现从量变到质变的飞跃。

随着中国自主研发的光刻机的问世，这也标志着西方国家对中国的全面技术封锁已经失败。不过，要说最痛苦的，还得是荷兰，因为它们失去了中国这个最大的光刻机市场，从而遭受了经济损失。不得不说，做美国的盟友，真的是“致命”的。