光刻掩膜版制作流程
光刻掩膜版的制作是一个复杂且精密的过程，涉及到多个步骤和技术。以下是小编整理的光刻掩膜版制作流程： 1. 设计与准备 在开始制作光刻掩膜版之前，首先需要根据电路设计制作出掩模的版图。这个过程通常使用计算机辅助设计(CAD)软件来实现。设计好后，会生成一个掩模图案的数据文件。 2. 选择基板 选择适当的基板材料是制作光刻掩膜的重要环节。常用的基板材料是石英或玻璃。基板应该具有高透明度、低膨胀系数、高抗拉强度等特性。 3. 涂覆光刻胶 在清洗干净的基板上涂覆一层光刻胶。光刻胶是一种光敏材料，可以通过光的照射...【查看原文】
