su8 光刻胶使用方法及注意事项
su8光刻胶使用方法 基底准备 在使用SU-8光刻胶之前，基板应保持清洁和干燥. 清洁基板的方法包括使用硫酸和过氧化氢的混合液（piranha etch）进行湿法清洗，随后用去离子水冲洗. 可选地，也可使用反应离子蚀刻（RIE）或其他含氧的桶式装置进行清洗. 对于某些应用（例如电镀），推荐使用MCC Primer 80/20 (HMDS) 对基体进行预处理. 涂胶 根据基板尺寸，分配适量的光刻胶（例如，对于每英寸的基板直径分配1ml的抗蚀剂）. 使用旋涂机以一定的速度和加速度进行涂布，例如：先以500...【查看原文】
