【简略版】光刻技术发展简史：从手工雕刻到纳米制造

1.起源与定义 光刻技术（Photolithography）是微电子制造中的核心工艺，用于在半导体晶圆上创建精密的图案。简单来说，它就像“摄影”一样，通过光照射将图案转移到材料表面。自20世纪60年代以来，光刻技术已经成为半导体制造中最关键的一步，决定了芯片的尺寸、性能和功耗。 2. 第一代光刻技术：光学光刻 光刻技术的故事开始于20世纪50年代和60年代，当时晶体管正处于起步阶段。最早的光刻技术使用可见光和紫外光，通过掩膜（mask）和光敏材料（光刻胶，photoresist）将电路图案刻在硅晶圆上。这...【查看原文】