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国产光刻机取得重大突破后,荷兰态度变了,要求美国放宽对华限制

作者:墨写东瀛话春秋发布时间:2024-09-24

拜登在自己的任期内仍旧坚持遏制中国发展,但是他采取的方式,和特朗普“大水漫灌”的遏华行动截然不同,而是专门瞄准中高端产业对华施压,尤其重视联合盟友限制中国发展半导体产业。实事求是地讲,这一手段在他任期的前几年确有一定成效,但中方在默默积累技术实力后终于厚积薄发,在美方封锁最严的半导体领域,取得了重大突破。

日前,工信部发布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》,其中一项内容引起了广泛关注。从公告内容来看,集成电路生产装备名单中包含了一款氟化氩光刻机,套刻精度小于或等于8nm,主要应用于制造7纳米及以上工艺节点的芯片。

这一技术装备的推广,对于提升中国半导体制造业的技术水平和自主创新能力具有重要意义。另外,哈尔滨工业大学公布了“高速超精密激光干涉仪”研发成果,中国科学院长春光机所也在EUV光源系统上取得了突破。

这一系列成果标志着中国在光刻机技术方面正在逐步突破,最起码不会像以前那样完全受制于人。在中国光刻机技术取得重大突破之后,荷兰方面的态度立刻发生了转变。

据观察者网9月24日报道,正在访问美国的荷兰经济事务大臣德克·贝亚茨,在与美国商务部副部长唐·格雷夫斯会晤时表示,中国是荷兰重要的贸易伙伴,荷兰也有自己的经济发展目标,他要求美国允许荷兰重要的企业——半导体设备制造商阿斯麦自由开展业务。

荷兰这一态度的变化并非无的放矢。荷兰9月6日发布声明,扩大了对阿斯麦1970i和1980i深紫外浸没式光刻设备的出口许可要求,这实际上就是在响应美国号召针对中国;9月9日工信部发布《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。随后的9月24日荷兰经济大臣在美国要求给阿斯麦“松绑”。

接踵而来的事件一环扣一环,如果不是中方在光刻机上取得的新突破,令荷兰有了危机感,德克·贝亚茨不至于当面对美国官员施压。毕竟禁令已经公布近半个月,荷兰就算有牢骚也早就该和美方发完了。

中方的突破与荷兰的牢骚,其实都在预期之内。中国大陆是阿斯麦仅次于台湾地区和韩国的第三大市场,约占其目前积压订单的20%,而中企约占阿斯麦客户群的半数。作为欧洲市值最高的科技公司,阿斯麦不可能舍得放弃中国大陆市场,受限于美方的施压中断部分产品出口必然引起阿斯麦内部的不满。

而中方在光刻机上取得的突破,也顺应了市场规律,一是光刻机的发展路线国外已经走过了一遍,中方不至于再走弯路,自然能节省一定的研发时间;二是庞大的市场催生出了庞大的需求,美国“卡脖子”只能短时间内发挥作用。

美国著名企业家比尔·盖茨去年3月份曾表示,美国永远无法成功阻止中国拥有强大的芯片,其做法只会迫使中国花时间和金钱,来制造自己的芯片。这是美国不少科技界人士的共识,他们还是有先见之明的。

对中国来讲,最坏的情况无非是把美国研发半导体相关设备的路再重走一遍,这条路目前来看走得通。总而言之,来自美国的封锁短时间内或许有用,但中方必将以不屈不挠的努力,稳步地达到自己的目的,白宫封不了一辈子。


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