青岛欣宇超新材料申请一种DLC涂层镀膜设备专利，保证溅射过程稳定以及镀膜质量

金融界2024年9月28日消息，国家知识产权局信息显示，青岛欣宇超新材料有限公司申请一项名为“一种DLC涂层镀膜设备”的专利，公开号CN 118703954 A，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，本发明涉及真空镀膜设备技术领域，且公开了一种DLC涂层镀膜设备，包括真空腔体和基片，所述真空腔体内壁的底端固定设置有用于承载基片的基座，所述真空腔体的顶端固定连接有伺服电机，所述伺服电机的输出端固定连接有传动轴，所述传动轴的底端固定连接有支撑杆，所述真空腔体内侧的顶端设置有用于作为靶材的靶环，所述真空腔体内侧的顶端设置有极板。本发明通过传动轴配合支撑杆带动极板和靶环转动，使靶环相对分别在若干个磁控装置下方对应的高密度等离子体区域匀速转动，避免单个磁控装置下方形成对应的“跑道”状蚀刻环形区域使靶环底部的溅射面溅射蚀刻均匀，保证了溅射面与基片的角度，保证了溅射过程的稳定以及镀膜的质量。

来源：金融界