金融界2024年11月11日消息,国家知识产权局信息显示,武汉京东方光电科技有限公司、京东方科技集团股份有限公司、北京京东方技术开发有限公司申请一项名为“一种阵列基板、显示面板和阵列基板的制作方法”的专利,公开号 CN 118919540 A,申请日期为2024年7月。
专利摘要显示,本发明提供一种阵列基板、显示面板和阵列基板的制作方法,以改善现有技术的显示面板在提升对比度时,会使显示面板出现高温残像,以及信赖性,良率和工艺稳定性发生较低的问题。所述阵列基板,具有显示区,以及位于所述显示区外围的周边区,所述阵列基板包括:衬底,位于所述衬底一侧的第一导电层;所述第一导电层包括:多个第一电极,以及多个转接电极;所述第一电极位于所述显示区,所述转接电极位于所述周边区;在垂直于所述衬底的方向上,所述第一电极的最大厚度,小于所述转接电极的最大厚度。
来源:金融界