一分钟速览新闻点! 小米手机遭刻意抹黑,雷军 @小米品牌安全“出击” 传鸿蒙系统明年将不兼容安卓,业内人士:内部确实有这计划 蔚来李斌内部讲话流出:首个车企合作换电业务将落地 小米回应小米汽车进展:接...【查看原文】
他表示,换电是蔚来巨大的先发优势,目前已经到了面向全行业开放的时刻,周二就会宣布第一家合作伙伴,后面还有4-5家在谈。报道称大量OpenAI员工对阿尔特曼的离开感到沮丧,他们在𝕏上表达了对OpenAI董事会…
OpenAI微软阿尔特曼
CSDN 2023-11-24
据TheInformation报道,OpenAI770名员工中,有710多人签署了一封公开信,要求董事会辞职,并恢复前CEOSamAltman和前总裁GregBrockman的职务。员工表示,如果Altman和Brockman不复职,他们将辞职并加入微软。
OpenAI微软汽车
爱范儿 2023-11-21
[图片] 开发者朋友们大家好: 这里是 「RTE 开发者日报」 ,每天和大家一起看新闻、聊八卦。我们的社区编辑团队会整理分享 RTE (Real Time Engagement) 领域内「有话题的 新闻 」、「有态度的 观点 」、「有意思的 数据 」、「有思考的 文章 」、「有看点的 会议 」,但内容仅代表编辑的个人观点,欢迎大家留言、跟帖、讨论。 本期编辑:@Asui,@CY 01有话题的新闻 1、OpenAI 超 700 名员工联名逼宫董事会,不解散就跳槽微软 ChatGPT 开发公司 OpenA
OpenAI微软ChatGPT
RTE开发者社区 2023-11-21
【今日要闻】1.网传鸿蒙系统明年将不兼容安卓近日,有消息称华为可能明年推出不兼容安卓的鸿蒙版本。(澎湃新闻)2.投资者考虑起诉OpenAI董事会11月21日消息,消息人士透露,在OpenAI解雇SamAltman后,投资者考虑起诉该公司董事会。
融资OpenAI华为
融资中国 2023-11-21
当地时间11月20日,据美国科技媒体Wired报道,超过700名OpenAI员工签署了联名信,要求公司董事会辞职,并恢复两位联合创始人山姆·阿尔特曼、格雷格·布罗克曼的职位,否则他们将辞职加入微软。
金融界 2023-11-21
金融界2024年12月26日消息,国家知识产权局信息显示,中建二局深圳南方建设投资有限公司与中国建筑第二工程局有限公司取得一项名为“一种钢筋堆放用支架”的专利,授权公告号CN222200529U,申请日期为2024年4月。
金融界 2024-12-26
金融界2024年12月26日消息,国家知识产权局信息显示,苏州创欣材料科技有限公司申请一项名为“双面增透镀层电致变色片及其控制系统和控制方法”的专利,公开号CN119179222A,申请日期为2024年10月。
金融界2024年12月26日消息,国家知识产权局信息显示,倍晶新材料(山东)有限公司申请一项名为“含DNQ的双感光光刻胶材料及其制备方法与应用”的专利,公开号CN119179231A,申请日期为2024年10月。
金融界2024年12月26日消息,国家知识产权局信息显示,众燊达(常州)电子科技有限公司取得一项名为“一种数码产品配件针管生产用存放架”的专利,授权公告号CN222200532U,申请日期为2024年5月。
金融界2024年12月26日消息,国家知识产权局信息显示,广东志慧芯屏科技有限公司申请一项名为“像素单元、像素排列结构及显示器”的专利,公开号CN119179224A,申请日期为2023年6月。专利摘要显示,本申请涉及一种像素单元、像素排列结构及显示器。
金融界2024年12月26日消息,国家知识产权局信息显示,惠科股份有限公司申请一项名为“显示模组及电子纸”的专利,公开号CN119179223A,申请日期为2024年10月。专利摘要显示,本发明属于电子纸技术领域,尤其涉及显示模组及电子纸。
金融界2024年12月26日消息,国家知识产权局信息显示,吉林省远畅智能装备有限责任公司取得一项名为“一种用于电子测量仪器制造成品的放置架”的专利,授权公告号CN222200527U,申请日期为2024年4月。
金融界2024年12月26日消息,国家知识产权局信息显示,安徽五材轴承有限公司取得一项名为“一种轴承存放货架”的专利,授权公告号CN222200525U,申请日期为2024年3月。
金融界2024年12月26日消息,国家知识产权局信息显示,京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“背光模组和显示装置”的专利,公开号CN119179216A,申请日期为2024年9月。专利摘要显示,本公开提供一种背光模组和显示装置,属于显示技术领域,其可解决现有的背光模组出光效率低且掺杂有害蓝光等问题。
金融界2024年12月26日消息,国家知识产权局信息显示,浙江创芯集成电路有限公司申请一项名为“掩膜版图的形成方法、掩膜版的形成方法、存储介质及终端”的专利,公开号CN119179229A,申请日期为2024年9月。
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