武汉精立申请高精度尺寸量测方法专利，提高待测区域尺寸精度

金融界2024年12月20日消息，国家知识产权局信息显示，武汉精立电子技术有限公司申请一项名为“一种高精度尺寸量测方法”的专利，公开号 CN 119146845 A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本申请涉及一种高精度尺寸量测方法，其包括以下步骤：按照设定的规则将光源的输出光调整为与待测物匹配的颜色；采集待测物待测区域的图像；基于图像计算待测物待测区域的尺寸。本申请通过对光源输出光的颜色进行调整，可以使得不同着色待测物上照射与其颜色匹配的光线，进而提高采集的图像的对比度，基于高对比度图像计算出来的待测区域的尺寸精度也更高，且能够实现多色的产品测量需求，解决了相关技术中不同着色的杆状待测物的图像对比度存在明显差异，导致不同着色杆状待测物的测量精度存在偏差的技术问题。

来源：金融界