正性光刻对掩膜版的要求
在正性光刻过程中，掩膜版（Photomask）作为图形转移的关键工具，其性能直接影响到最终图形的精确度和质量。以下是正性光刻对掩膜版的主要要求： 图案准确性 在正性光刻中，掩膜版上的图案需要被准确地复制到光刻胶上。这意味着掩膜版上的每一个细节都必须清晰且无缺陷，因为任何细微的错误都会在后续的工艺步骤中被放大，影响最终产品的性能。 材料选择 掩膜版通常由高纯度的石英玻璃制成，因为石英玻璃具有优异的化学稳定性和光学透过率，能够承受光刻过程中的高温和高能辐射。此外，石英玻璃的热膨胀系数低，有助于保持掩膜版在不...【查看原文】
