广东先导微电子取得一种清洗喷头专利，可全面清洗晶片表面及背面

金融界2024年12月20日消息，国家知识产权局信息显示，广东先导微电子科技有限公司取得一项名为“一种清洗喷头”的专利，授权公告号CN 222175097 U，申请日期为2024年2月。

专利摘要显示，本实用新型涉及晶片清洗技术领域，公开了一种清洗喷头，包括依次连通的进液管、喷头主体、连接管以及喷管，所述喷头主体内部设有过液腔，所述过液腔和所述进液管的出液口连通，所述过液腔的内壁由上至下依次设有和所述进液管同轴的第一台阶面和第二台阶面，所述喷头主体底部对称设有所述连接管，所述连接管的内侧壁与所述第二台阶面相接，所述连接管沿所述喷头主体径向内弯折形成所述喷管，所述第一台阶面、所述第二台阶面、所述连接管以及所述喷管的内侧壁均设有滴液孔。本实用新型的有益效果：可以全面清洗到晶片表面，边缘以及晶片背面，清洗过程中药液分布均匀，降低药液对晶片表面的冲击，避免晶片表面出现中心圈和斑点。

来源：金融界