苏州施密科取得便于沥干的半导体清洗装置专利，方便沥干半导体

金融界2024年12月20日消息，国家知识产权局信息显示，苏州施密科微电子设备有限公司取得一项名为“一种便于沥干的半导体清洗装置”的专利，授权公告号CN 222175082 U，申请日期为2024年1月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种便于沥干的半导体清洗装置，包括支撑座和清洗箱，所述支撑座下表面的四角位置均安装有支柱，且支柱的中间安装有承托板，所述承托板的上表面安装有循环泵，所述循环泵的左端和上端均连接有喷淋管，所述喷淋管的内侧面等间距安装有喷头，所述刷洗机构包括电动伸缩杆和清洁刷，所述箱盖的下表面安装有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的末端安装有清洁刷。该便于沥干的半导体清洗装置，设置可移动式刷洗机构方便对半导体表面进行刷洗，增加清洗效果，设置限定机构方便对半导体进行夹持固定，起到辅助刷洗半导体的作用，同时方便沥干半导体，设置循环机构能够循环利用水资源，以免造成浪费。

来源：金融界