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安徽格恩申请半导体激光器芯片外延结构专利,提升空穴浓度和降低内部光学损耗

作者:金融界发布时间:2024-12-25

金融界2024年12月25日消息,国家知识产权局信息显示,安徽格恩半导体有限公司申请一项名为“一种半导体激光器芯片的外延结构”的专利,公开号CN 119171184 A,申请日期为2024年9月。

专利摘要显示,本发明公开了一种半导体激光器芯片的外延结构,从下至上依次包括衬底、下限制层、下波导层、有源层、上波导层、上限制层,所述上限制层与上波导层之间具有空穴费米面调控层;所述空穴费米面调控层包括第一空穴费米面调控层、第二空穴费米面调控层和第三空穴费米面调控层;所述第一空穴费米面调控层的热导率分布具有函数y=A+B*arccosx曲线分布;所述第二空穴费米面调控层的热导率分布具有函数y=C+D*lnx‑x+1曲线分布;所述第三空穴费米面调控层的热导率分布具有函数y=E+F*ex+G*cosx第二三象限曲线分布。本发明具有较快的费米速率,费米能穿越价带形成空穴费米面,提升p型掺杂的离化效率,减少未电离的Mg受主杂质,提升空穴浓度和降低内部光学损耗。

来源:金融界


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