太仓斯迪克新材料科技申请高耐磨防眩减反射光学膜专利，达到防眩效果

金融界2024年11月13日消息，国家知识产权局信息显示，太仓斯迪克新材料科技有限公司申请一项名为“高耐磨防眩减反射光学膜及其制备方法”的专利，公开号CN 118930932 A，申请日期为2024年7月。

专利摘要显示，本发明公开了一种高耐磨、防眩减反射光学膜及其制备方法，该光学膜包括基膜、形成于所述基膜上的防眩涂层和形成在所述防眩涂层上的减反射涂层。本发明采用防眩微粒使涂层表面反射光减弱，达到防眩效果，并将含氟丙烯酸酯改性笼型聚倍半硅氧烷应用于减反射涂层中，由于笼型聚倍半硅氧烷(POSS)其规整的空间结构，对在Si原子所连基团R进行设计，接枝含有不饱和双键，与传统共混物相比，界面稳定性更好，与UV固化树脂有良好的相容性，可参与光固化反应，使得光固化双键转化率提高，制备的减反射涂层具有优异的耐磨性、光学性能。

来源：金融界