苏州光越微纳申请用于纳米压印的分模治具及方法专利，避免晶圆上的微纳结构图形被横向位移拉变形

金融界2024年12月18日消息，国家知识产权局信息显示，苏州光越微纳科技有限公司申请一项名为“用于纳米压印的分模治具及方法”的专利，公开号 CN 119126482 A，申请日期为 2024年8月。

专利摘要显示，本发明公开一种用于纳米压印的分模治具及方法，包括：上模板和下模板，在下模板上安装有转轴，转轴与下模板通过弹簧连接，转轴能够发生横向偏移；上模板通过转轴与下模板转动连接，上模板能够以转轴为轴心发生翻转；在上模板和下模板上分别设有吸附组件，吸附组件用于吸附压印模板或晶圆。本发明采用分模治具将压印模板与晶圆分离，分模时，采用吸附组件吸附压印模板、晶圆，避免晶圆损伤。同时，利用弹簧抵消横向力，避免晶圆上的微纳结构图形被横向位移拉变形，本发明结构简单，成本低，适宜推广。

来源：金融界