青岛翼晨镭硕申请周期性量子点增强型半导体可饱和吸收镜及其制备方法专利，能制备周期性量子点增强型半导体可饱和吸收镜

金融界2024年12月25日消息，国家知识产权局信息显示，青岛翼晨镭硕科技有限公司申请一项名为“周期性量子点增强型半导体可饱和吸收镜及其制备方法”的专利，公开号CN 119171171 A，申请日期为2024年7月。

专利摘要显示，本申请涉及一种周期性量子点增强型半导体可饱和吸收镜及其制备方法。该方法包括：在衬底上依次生长布拉格反射层、缓冲层、量子点吸收层、盖层和掩膜层，在掩膜层上平铺一层聚苯乙烯微球，通过刻蚀方法调整聚苯乙烯微球的直径至预设目标直径，使其尺寸达到需要的光栅周期，使用调整后的聚苯乙烯微球作为掩膜，对掩膜层进行刻蚀，将其刻蚀为周期性的二维光栅图案层，去除聚苯乙烯微球后，利用已经形成的周期性二维光栅图案层作为掩膜，对量子点吸收层和盖层进行刻蚀，去除衬底上与光栅图案对应的部分，去除光栅图案结构层后，在刻蚀后的盖层上沉积第一介质膜层，并在缓冲层上沉积第二介质膜层，形成周期性纳米圆柱光栅层和介质膜光栅层。

来源：金融界