上海艾深斯申请新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备专利，提供基于聚合物的光致抗蚀剂用于光刻法中的不同应用
金融界2024年12月18日消息，国家知识产权局信息显示，上海艾深斯科技有限公司申请一项名为“新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备”的专利，公开号CN 119126491 A，申请日期为2023年6月。
专利摘要显示，本发明涉及新型聚合物和含有所述聚合物的组合物，从而提供基于聚合物的光致抗蚀剂用于光刻法例如KrF中的不同应用。本发明的光致抗蚀剂组合物包含乙酰氧基苯乙烯共聚物和羟基苯乙烯共聚物的混合物。
来源：金融界
