浙江创芯申请掩膜版图相关专利，有效提升掩膜版图生产效率

金融界2024年12月26日消息，国家知识产权局信息显示，浙江创芯集成电路有限公司申请一项名为“掩膜版图的形成方法、掩膜版的形成方法、存储介质及终端”的专利，公开号 CN 119179229 A，申请日期为2024年9月。

专利摘要显示，一种掩膜版图的形成方法、掩膜版的形成方法、存储介质及终端，其中掩膜版图的形成方法包括：读取版图信息表，所述版图信息表包括图形特征信息；识别所述图形特征信息，并基于所述图形特征信息绘制对应所述版图图形；将所述版图图形进行预设规则的摆放。通过读取所述版图信息表，且在识别所述图形特征信息之后，基于所述图形特征信息绘制对应所述版图图形，在所述版图图形绘制完成之后，基于预设规则对所述版图图形进行摆放，以生成所述掩膜版图。所述掩膜版图生成的各个步骤均基于自动化的程序设定完成，进而能够有效减少人力参与，且能够有效提升掩膜版图的生产效率。

来源：金融界