苏州山河光电申请光学元件的设计方法及光学元件专利，能够降低色差的影响保证光学元件的调制效果

金融界2024年12月18日消息，国家知识产权局信息显示，苏州山河光电科技有限公司申请一项名为“光学元件的设计方法及光学元件”的专利，公开号 CN 119126376 A，申请日期为2024年10月 。

专利摘要显示，本发明提供一种光学元件的设计方法及光学元件，所述光学元件包括对于入射光进行偏折的超构光栅，所述设计方法包括：获取光栅单元的周期，确定光栅单元内纳米结构的数量和周期；对纳米结构进行 Bloch 边界扫描，从扫描结果中筛选出接近于工作波段相位要求的纳米结构特征尺寸，并将对应特征尺寸的纳米结构排布于光栅单元内；将光栅单元进行周期性排列后，获得超构光栅；对排布于光栅单元内的纳米结构进行筛选，使得筛选后的纳米结构基本满足工作波段内所有波长的相位要求，从而光学元件在利用超构光栅实现异常偏折时，能够降低色差的影响，保证了光学元件的调制效果。

来源：金融界