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中山智隆申请改性 ATO 陶瓷靶材及其制备方法专利,提高靶材在磁控溅射过程中的稳定性

作者:金融界发布时间:2024-12-17

金融界 2024 年 12 月 17 日消息,国家知识产权局信息显示,中山智隆新材料科技有限公司申请一项名为“一种改性 ATO 陶瓷靶材及其制备方法”的专利,公开号 CN 119118652 A,申请日期为 2024 年 8 月。

专利摘要显示,本发明公开了一种改性 ATO 陶瓷靶材及其制备方法,该改性 ATO 陶瓷靶材的原料组分按重量份计包括:氧化锡 89‑98 份,氧化锑 1‑10 份,掺杂氧化物 1‑3 份,所述掺杂氧化物为 ZnO、Bi2O3、TiO2、Ta2O5 中的至少一种。本发明通过采用特定的金属氧化物对 ATO 陶瓷靶材进行掺杂改性,并控制烧结气氛与烧结温度制度,利用掺杂氧化物的特性及其与 SnO2 的相互作用,从而提高靶材的烧结致密度,消除晶界的气孔,进而提高靶材的导电性以及在磁控溅射过程中的稳定性。实现改性 ATO 陶瓷靶材的相对密度≥97.8%,甚至可达 99.2%;电阻率≤5.2×10‑3 Ω·cm,甚至可达 3.8×10‑3 Ω·cm。

来源:金融界


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