浙江日久申请一种含有 SiO2、Ti 的 HUD 膜及其制备工艺专利，使得最终形成的 HUD 膜耐磨性好

金融界 2024 年 11 月 5 日消息，国家知识产权局信息显示，浙江日久新材料科技有限公司申请一项名为“一种含有 SiO2、Ti 的 HUD 膜及其制备工艺”的专利，公开号 CN 118895480 A，申请日期为 2024 年 7 月。

专利摘要显示，本发明 公开了一种含有 SiO2、Ti 的 HUD 膜及其制备工艺，含有 SiO2、Ti 的 HUD 膜包括依次层叠设置的 基材层、打底层、TiO2 层、金属层以及 SiO2 层，所述SiO2 层通过磁控镀膜溅射 工艺形成，所述磁控 镀膜溅射工艺中选用的靶材为包括硅 和铝的混合靶，轰击 所述靶材的反应气体为包括氩气、氮气以及氧气的混合气体。本发明通过设置 TiO2 层、以及通过包括氩气、氮气以及氧气的 混合气体轰击包括硅和铝的混合靶形成 SiO2 层，使得最终形成 的 HUD 膜耐磨性好，且 P 光和 S 光的反射效果好，环测效果好。因此，能够有效地应用于汽车前风挡玻璃，为驾驶员提供清楚完 整的驾驶信息，确保驾驶的安全。

来源：金融界