海格锐特取得均匀性离子镀膜源装置专利，提高工件镀膜均匀性

金融界2024年11月16日消息，国家知识产权局信息显示，四川海格锐特科技有限公司取得一项名为“种均匀性离子镀膜源装置”的专利，授权公告号 CN 222008008 U，申请日期为2024年3月。

专利摘要显示，本实用新型属于均匀性离子镀膜源技术领域，具体的一种均匀性离子镀膜源装置，包括镀膜密封舱、隔离板和万向轮，隔离板的侧壁固定连接镀膜密封舱的内壁，隔离板的内部转动连接转动杆的外壁表面，转动杆的顶端固定连接转动盘的底部表面，转动杆的底端固定连接传动皮带轮的顶面。本申请通过将转动盘的底面固定连接转动杆的顶端，然后将转动杆的壁面转动连接隔离板的内部，通过将驱动电机的输出轴端部固定连接驱动皮带轮的顶面，然后将驱动皮带轮的壁面通过凸型皮带传动连接传动皮带轮的壁面，当打开驱动电机时使得转动杆带动转动盘可以在镀膜密封舱的内部转动，当工件放置在转动盘的顶面从而工件可以在其顶面转动，提高工件的镀膜的均匀性。

来源：金融界