国产光刻机进展太慢？重点不是这个

►文/观察者网专栏作者 白山头

最近网上有很多关于中国工信部发布的光刻机技术讨论的分析文章，大致认为工信部发布的这款光刻机相当于阿斯麦15至20年前的产品，主要应用于55至65纳米的工艺。这与大家所理解的能够生产8纳米或7纳米的先进工艺有较大差距。

因此，许多人看完这些技术分析后，觉得我们的进步不够快。然而，实际上大家看错了重点。

这款光刻机属于公认的第四代光刻机，也就是DUV光刻机，仅次于最先进的EUV光刻机。虽然在精度上与更为先进的光刻机有差距，但它属于同一代，并不存在代差，具备很强的迭代升级空间。

也就是说，这款65纳米的光刻机与能够制造7纳米工艺的光刻机之间并没有代差。所需要做的就是不断迭代升级，包括镜头、光刻胶、光源、套刻精度等各方面。

当然，要达到能够制造出7纳米工艺的水平，需要大量的努力和投入。

不过纠结于光刻机的细节参数其实是本末倒置。我们需要理解的是，为什么工信部会在这个时候发布这样两款算不上先进的光刻机。

首先，对这两款光刻机进行推广，意味着它已经经过了工程验证和优质客户的优先采购，已经完全满足了这些客户的需求。光刻机的产量足以供给更多客户，这才具备推广的意义。如果产量不足，供不应求，那就没有推广的必要。这是很浅显的道理。

此外，还有对阿斯麦及荷兰政府的施压。阿斯麦曾放话，不再为中国企业售出的光刻机提供售后服务，并且收紧了光刻机的销售种类。大家可能不知道，65纳米以上的光刻机销售额占阿斯麦中国总销售额的40%，而中国市场又占据了阿斯麦总销售额的50%。也就是说，如果这款65纳米光刻机实现全部国产替代，阿斯麦将损失20%的销售额，这对公司来说是一个重大打击。

值得注意的是，65纳米光刻机并非我们目前已应用的最先进的国产光刻机。这里说的是“已应用的”，而不是“正在研发中的”。相信EUV光刻机的研发早已在进行中。

至于工信部为什么不推广最新国产先进光刻机，其实也不难理解。国内目前的需求就足以消化掉国产先进光刻机的产能。也就是说，这款先进光刻机仍然处于供不应求的状态，当然优先供给自己使用。当一个产品供不应求时，也就没有必要进行推广。按照中国人一贯低调的做事风格，没有必要官宣的时候，也无需官宣。而且通常不会把最先进的技术拿出来。

展望未来，当整个行业都在快速迭代、奋起直追时，如果按照历史规律判断需要多少年能赶上欧美，显然是不切实际的。个人判断，不出五年，先进的国产DUV光刻机将会大规模应用；而不出十年，包括最先进的EUV光刻机都有可能实现大规模量产。

当国产半导体供应链完整形成后，可能会出现国产供应链与欧美供应链的竞争格局。由于国产供应链更短、更紧凑、效率更高，欧美的半导体供应链或将逐渐衰退。包括台积电和阿斯麦这些如今在行业内呼风唤雨的公司，也许不久后会逐渐退出历史舞台。

来源|观察者网