光刻工艺介绍及对掩膜版的质量要求
光刻工艺的基本要求包括图形完整、尺寸准确、套准对准且套准精度高、表面干净，并具有一定的工艺宽容度。 光刻是一种图形复印和化学腐蚀相结合的精密表面加工技术，其质量的基本要求涵盖了多个方面以确保芯片制造的精确性和可靠性。 具体来说： 图形完整、尺寸准确：这是指光刻过程中，需要确保被转移的图形完整无损，并且尺寸符合设计要求，这是保证芯片功能正常的基础。 套准对准，套准精度高：这一要求确保了多个光刻层之间的精确对齐，是保证芯片性能和可靠性的关键因素之一。 表面干净：光刻过程中，需要保证硅片表面无...【查看原文】
