倍晶新材料申请含DNQ的双感光光刻胶材料及其制备方法与应用专利，提高抗蚀剂的溶解特性和热稳定性
金融界2024年12月26日消息，国家知识产权局信息显示，倍晶新材料（山东）有限公司申请一项名为“含DNQ的双感光光刻胶材料及其制备方法与应用”的专利，公开号CN 119179231 A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种含DNQ的双感光功能性光刻胶材料及其制备方法与应用，属于光刻材料技术领域，其制备方法以磺酰氯、乙烯基乙醚为改性材料，并以二碳酸二叔丁酯作为化学放大剂，通过自由基溶液聚合对树脂进行修饰改性。本发明还公开了上述制备方法制备得到的含DNQ的双感光功能性光刻胶材料及其在光刻胶体系中的应用。本发明的含DNQ的双感光光刻胶材料显示出优良分辨率，具有良好的耐酸性和涂布均匀性，在保持单体敏化剂性能特性的同时，还提高了抗蚀剂的溶解特性和热稳定性，在G线和I线领域内产品产业化生产方面具备优异的光化学性能，可广泛用于电路封装、印刷电路和集成电路的制造以及半导体分立器件的微细加工等过程。
来源：金融界
